三星電子前高層涉盜取機密在中國建廠被捕
韓聯社報道,南韓三星電子一名前高層,涉嫌盜取公司機密,企圖在中國設立「山寨版」三星電子半導體廠,遭南韓檢方拘留起訴。
南韓水原地檢署表示,以違反產業技術保護法等罪名,拘捕一名65歲男子。
報道指,被捕男子曾任SK海力士副社長,在業界極具影響力。調查顯示,他涉嫌在2018年8月至2019年期間,不當取得三星多項商業機密,包括被南韓政府定為國家核心技術的製造技術。而他企圖在中國興建的工廠,距離三星西安廠房僅1.5公里。
據悉他曾在成都獲得4600億韓元投資建廠,其中研發大樓去年完工,並採用三星的技術生產了樣版。
檢方推算,被捕男子洩露技術,令三星電子至少造成3000億韓元損失。