【共同社7月24日电】24日采访相关人士获悉，日本经济产业省基本决定将对半导体制造不可或缺的工业用水的新设工程提供补贴。对于被指定为经济安全保障方面“重要物资”的半导体，为了支持企业建厂和增强生产体制，2016年被排除在对象之外的新设工业用水将再次获得补贴。

半导体附着些许杂质或灰尘就会影响性能。制造过程中每道工序都会仔细清洗，因此需要大量的水。目前对工业用水的补贴对象仅限已有设备的耐震改造和灾后复原。在越来越多工厂迁往海外的背景下，新设被排除在对象之外。

争取实现新一代半导体国产化的“Rapidus”公司在北海道千岁市新建工厂，北海道知事铃木直道等人6月曾表示，完善工业用水等“仅靠地方政府是难以应对的”，向经产相西村康稔提交了希望获得财政援助的请愿书。

Rapidus以外的厂商也纷纷新设或强化半导体制造据点。全球最大半导体代工企业“台湾积体电路制造”（TSMC）正在熊本县菊阳町新建工厂，设想的地下水用量将达每天1.2万吨。

铠侠在岩手县北上市和三重县四日市市的工厂分别新增厂房，美国半导体巨头美光科技强化广岛县东广岛市的工厂，将生产新一代半导体。（完）